Micron heeft aangekondigd dat het zijn 1α-node voor dram gereed heeft voor massaproductie. De techniek moet na de 1x-, 1y- en 1z-nodes het vierde productieproces onder de 20 nanometer vormen en moet iets groter zijn dan 10 nanometer. 1-alpha biedt ten opzichte van Microns 1z-productieprocedé een 40% hogere celdichtheid. Daarnaast moet een lpddr5-chip zo'n 15% zuiniger zijn dan een vergelijkbare chip op de 1z-node. Er wordt nog geen gebruikgemaakt van extreme ultraviolet (euv), dat moet pas ro...
Continue reading...
Continue reading...